高度(100)取向PLT/PZT 多层铁电薄膜的制备与性能研究，2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉)-中国聚合物网,论文下载

高度(100)取向PLT/PZT 多层铁电薄膜的制备与性能研究

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关键词：

plt/pzt 多层铁电薄膜磁控溅射 (100)取向电学性质

资料大小：

316K

所属学科：

分子表征

来源：

2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉)

简介：

利用射频磁控溅射技术，以PbOx为过渡层,在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)衬底上，采用原位溅射技术制备了高度(100)取向的[(Pb0.90La0.10)Ti0.975O3/Pb(Zr0.20Ti0.80)O3]n(n＝1,2){简记为[PLT/PZT]n}多层铁电薄膜，研究了层数对多层铁电薄膜介电性能和铁电性能的影响。研究得出，(100)取向的PbOx过渡层导致了[PLT/PZT]n多层铁电薄膜的(100)择优取向；高度(100)择优取向的[PLT/PZT]2薄膜具有更大的剩余极化(2Pr＝31.45μC/cm)和更好的“蝴蝶”状C-V曲线。这些研究结果表明，所制备的(100)取向的[PLT/PZT]2多层铁电薄膜具有优良的铁电性能。

作者：

吴家刚，朱基亮，肖定全，朱建国，谭浚哲，张青磊

上传时间：

2008-08-28 13:54:38

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12346 2010-06-02 13:27:45

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