 |
真空热处理制备β-FeSi2光电薄膜的研究 |
|
|
|
| 资料类型： |
PDF文件
|
| 关键词： |
光电薄膜 β-FeSi2 真空热处理 磁控溅射 |
| 资料大小： |
381K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉) |
| 简介： |
|
磁控溅射法沉积的Fe/Si多层膜和Fe单层膜经真空热处理后制备了β-FeSi2薄膜。[Fe1nm/Si3.2nm]60多层膜在＜880℃温度下真空热处理2h后，样品均呈现β(220)/(202)择优取向，而Fe单层膜制备的样品则易形成β-FeSi2与ε-FeSi相的混合物，且取向杂乱。在920℃真空热处理后，两种样品都形成了α-FeSi2薄膜。原子力显微镜分析表明，样品表面粗糙度随热处理温度升高而变大，最大表面均方根粗糙度约为16nm。卢瑟福背散射分析发现，Fe/Si多层膜样品热处理过程中元素再分布很小。根据光吸收谱测量，Fe/Si多层膜制备的β-FeSi2薄膜的禁带宽度为0.88eV。 |
|
| 作者： |
沈鸿烈，高 超，黄海宾
|
| 上传时间： |
2008-09-08 14:36:28 |
| 下载次数： |
30 |
| 消耗积分： |
2
|
| 立即下载： |
|
|
| 友情提示：下载后对该资源进行评论，即可奖励2分。 |
|
| 报告错误： |
1.下载无效
2. 资料明显无价值
3. 资料重复存在 |
| |
|
|
| 你还没有登录，无法发表评论，请首先 |
 |
| 免责声明：本站部分资源由网友推荐，来自互联网，版权属于原版权人，如果不慎侵犯到您的权利，敬请告知，我们会在第一时间撤除。本站中各网友的评论只代表其个人观点，不代表本站同意其观点。 |
|
|
|
|
