溅射气压对FeCoSiB 非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响，2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉)-中国聚合物网,论文下载

溅射气压对FeCoSiB 非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响

资料类型：

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关键词：

fecosib 非晶薄膜溅射气压表面形貌矫顽力剩磁

资料大小：

360K

所属学科：

分子表征

来源：

2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉)

简介：

利用磁控溅射的方法，在玻璃基片上制备了FeCoSiB非晶薄膜，研究了溅射Ar气压强对薄膜表面形貌及磁特性的影响。结果表明，薄膜的表面形貌显著依赖于Ar气压强，随着Ar压强的增加，薄膜表面颗粒增大，粗糙度增加并形成柱状微结构。Ar气压强对薄膜磁特性有显著的影响，随Ar压强增加，薄膜的矫顽力增加，而剩磁则呈下降趋势。从薄膜的磁滞回线、矫顽力以及剩磁随溅射气压的变化规律可知，溅射气压较小时制备的薄膜软磁性能较好。

作者：

汤如俊，谢巧英，彭斌，张万里，张文旭，蒋洪川

上传时间：

2008-08-20 15:29:51

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