Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1 微弧氧化膜形成的影响，2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉)-中国聚合物网,论文下载

Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1 微弧氧化膜形成的影响

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关键词：

Na2SiO3 含量 ZAlSi12Cu2Mg1 稳定氧化时间陶瓷膜层

资料大小：

277K

所属学科：

分子表征

来源：

2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉)

简介：

电解液组成对微弧氧化陶瓷膜的形成具有重要作用。在Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇复合电解液体系下，对ZAlSi12Cu2Mg1合金微弧氧化陶瓷膜的形成进行研究，通过改变Na2SiO3的含量，研究了其对微弧氧化的临界起弧电压、稳定氧化时间、陶瓷膜层厚度、膜层生长速率和陶瓷膜层相组成的影响。结果表明：Na2SiO3含量从6g/L到12g/L变化时，膜层厚度从154μm逐渐增加到174μm；稳定氧化时间由27min缩短为18min；膜层生长速率约从5.70μm/min提高到9.67μm/min；但Na2SiO3含量超过12g/L时，膜层厚度却不再增加了；当Na2SiO3含量为14g/L时，膜层厚度为166μm；当Na2SiO3含量为8g/L时，临界起弧正向电压达385V，负向电压达最低值为27V。XRD分析表明：陶瓷膜层中含有莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相，陶瓷膜层的莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相含量随电解液Na2SiO3含量变化而变化。

作者：

刘彩文，刘向东，刘永珍，韩春霞，王晓军，张雅萍

上传时间：

2008-05-21 15:14:47

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peter007007 2009-11-12 12:27:11

very good

peter007007 2009-11-12 12:27:09

very good

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