硅粉在冷等离子体中的刻蚀纯化，2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉)-中国聚合物网,论文下载

硅粉在冷等离子体中的刻蚀纯化

资料类型：

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关键词：

粉粒表面刻蚀刻蚀纯化太阳级硅直流冷等离子体

资料大小：

511K

所属学科：

分子表征

来源：

2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉)

简介：

介绍了一种用直流辉光放电产生的冷等离子体对硅粉刻蚀纯化的方法。实验是在氩气氛中进行，结果表明硅粉纯度可由97.66%提高到98.47%。处理后的硅粉还可进行熔化－固化－粉碎再处理，因此是一种技术上可行的太阳级硅制备新方法。文中还应用反应室鞘层厚度、硅粉沉降平均速度、考虑高能粒子刻蚀作用的刻蚀速率方程等进行理论分析，结果显示，在一定的工艺参数下，刻蚀提纯是有效的。这也为粉体表面刻蚀研究提供了新的思路。

作者：

王家鑫，尹盛，王飞，王敬义

上传时间：

2008-08-25 14:37:50

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