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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
射频磁控溅射 ca2si 薄膜 溅射功率 |
| 资料大小： |
308K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19，武汉) |
| 简介： |
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采用射频磁控溅射技术在Si（100）衬底上沉积了Si-Ca-Si薄膜，并在高真空条件下对样品进行退火处理，直接生成立方相Ca2Si薄膜。研究了不同溅射功率对薄膜的晶体结构、表面（断面）形貌的影响，并对其光学性质进行了测试分析。结果表明：Ca2Si薄膜为立方结构且具有沿(111)向择优生长的特性，当溅射功率为120W时，Ca2Si薄膜变的均匀、致密，在400～800nm波长范围内，溅射功率对折射率n和吸收系数k的影响较小。 |
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| 作者： |
任雪勇，谢泉，杨吟野，肖清泉，杨创华，曾武贤，梁艳
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| 上传时间： |
2008-08-12 15:55:53 |
| 下载次数： |
44 |
| 消耗积分： |
2
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