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磁控溅射工艺参数对氧化钛薄膜晶体结构的影响 |
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资料类型: |
PDF文件
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关键词: |
氧化钛薄膜 非平衡磁控溅射 晶体结构 离子/原子到达比 |
资料大小: |
82K |
所属学科: |
结构表征 |
来源: |
来源网络 |
简介: |
用非平衡磁控溅射技术制备氧化钛薄膜。研究了基体偏压、沉积温度、基体性质及溅射功率对薄膜晶体结构的影响。结果表明,到达基体的粒子的能量和离子/原子比是影响氧化钛薄膜晶体结构的主要因素;而到达基体的离子/原子比是生成完全金红石结构氧化钛薄膜的决定性因素。 |
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上传人: |
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上传时间: |
2007-07-06 17:16:39 |
下载次数: |
592 |
消耗积分: |
2
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立即下载: |
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