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磁控溅射工艺参数对氧化钛薄膜晶体结构的影响 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
氧化钛薄膜 非平衡磁控溅射 晶体结构 离子/原子到达比 |
| 资料大小： |
82K |
| 所属学科： |
结构表征 |
| 来源： |
来源网络 |
| 简介： |
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用非平衡磁控溅射技术制备氧化钛薄膜。研究了基体偏压、沉积温度、基体性质及溅射功率对薄膜晶体结构的影响。结果表明，到达基体的粒子的能量和离子/原子比是影响氧化钛薄膜晶体结构的主要因素；而到达基体的离子/原子比是生成完全金红石结构氧化钛薄膜的决定性因素。 |
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| 上传人： |
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| 上传时间： |
2007-07-06 17:16:39 |
| 下载次数： |
592 |
| 消耗积分： |
2
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