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同步辐射技术与高分子加工物理 |
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| 资料类型： |
JPG图片格式
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| 关键词： |
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| 资料大小： |
91KB |
| 所属学科： |
结构表征 |
| 来源： |
来源网络 |
| 简介： |
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结合同步辐射和我们实验室发展的原位装置，我们针对高分子加工物理这一方向做了系统的研究工作。发展和研制了对分子链内构象有序敏感的红外谱学流变方法和技术，研究剪切诱导的构象有序及其松弛动力学和稳定化过程，提出预有序可能是分子链内构象有序与分子链间取向有序耦合导致的液晶有序结构，并建议采用构象有序及其松弛时间作为描述预有序结构的参量。研制了与同步辐射 X 射线散射等联用的微型伸展流变装置，第一次用实验直接证明 shish 的生成不需要解缠结，而只需要拉伸网络。在理论上，以微流变模型为基础，成功的构建出耦合入链松弛动力学的流动场诱导成核热力学模型。在非线性流变区，我们提出流动场加速结晶的“鬼成核”模型，很好地解释了成核速率数量级的提高和 shish 结构的形成。 |
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| 上传人： |
liuyh
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| 上传时间： |
2013-11-20 16:21:11 |
| 下载次数： |
0 |
| 消耗积分： |
2
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| 立即下载： |
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