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关键词: |
金刚石膜 氮气 生长速率 表面形貌 膜品质 EA-CVD方法 |
资料大小: |
126K |
所属学科: |
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来源: |
来源网络 |
简介: |
采用电子辅助化学气相沉积法(EA-CVD)制备掺氮金刚石薄膜,研究了不同氮气流量对金刚石膜的生长速率、表面形貌和膜品质的影响。实验发现,在较低的氮气流量下,金刚石膜的生长速率增加,在较高的氮气流量下生长速率减小。利用SEM、Raman光谱、XPS等测试手段对样品的表面形貌及品质进行了表征。结果表明,当氮气流量为4sccm时金刚石膜的结晶比较完整;当氮气流量为8sccm时生成与(100)面共存的“菜花状”。氮气流量的进一步增加,“菜花”表面(100)晶面显露的数量明显降低,非金刚石碳含量和氮杂质含量增加,金刚石膜的品质明显下降。 |
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上传人: |
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上传时间: |
2007-07-11 14:32:37 |
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