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低温等离子体在高分子材料表面改性中的应用研究 |
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| 资料类型： |
JPG图片格式
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| 关键词： |
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| 资料大小： |
383KB |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
第二届高分子成型加工及其产业发展研讨会(2015.5.16－18成都) |
| 简介： |
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常用于高分子材料表面低温等离子体改性的手段主要包括微波（MW）等离子体表面处理、射频（RF）等离子体表面处理、中频（MF）等离子体表面处理以及各类离子源轰击改性处理等，其中除离子源具有方向性外，其余方式都是一种浸浴式处理，即被处理试样所有表面均被处理。本文主要使用一种阳极层离子源，分别以氮气、氧气作为气体离子源，轰击一种双组份聚氨酯涂层，研究不同离子源轰击与聚氨酯涂层的相互作用，了解涂层表面形貌变化情况，分析涂层表面元素及官能团的变化规律，最后以锆镀层附着力来评判不同气源的改性效果。 |
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| 作者： |
刘际伟，高毅
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| 上传时间： |
2015-06-25 13:47:58 |
| 下载次数： |
0 |
| 消耗积分： |
2
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