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用于制作光波导器件的新型高含氟光刻胶的合成与表征  
用于制作光波导器件的新型高含氟光刻胶的合成与表征
资料类型: PDF文件
关键词: 含氟光刻胶  光波导  光损  
资料大小: 127K
所属学科: 分子表征
来源: 2009年全国高分子学术论文报告会(8.18-8.22,天津)
简介:
聚合物光波导材料由于其优良的机械性能,及器件易于加工,易于同无机组分杂化,制作费用低等特点,将在迅速发展的宽带通讯领域得到广泛的应用[1]。含氟光波导材料更因为具有较低的折射率、光损和吸湿性更加得到大家的关注[2]。其中作为主体材料用于光波导制作的光刻胶材料,还因自身的光敏性能大大缩减了制作过程及降低了制作费用,并能够得到侧壁更加陡直的光波导[3]。本文介绍了一种节约成本、制备方法简便、低光损的含氟光刻胶。这种新型光刻胶有着很好的溶解性,固化交联后具有较好的热稳定性,并且材料中氟原子取代了大部分氢原子使其在近红外波段尤其是光的通讯窗口(1310nm和1550nm)的吸收较小,有效的降低了光损,所以其在光波导材料方面有很好的应用前景。
作者: 万莹,费旭,周金山,崔占臣
上传时间: 2009-09-25 14:04:07
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