课题组简介

导师简介：

  邓海博士，国家千人特聘专家，复旦大学高分子科学系，聚合物分子工程国家重点实验室，教授，博士生导师。师从活性自由基聚合和活性阳离子聚合的先驱者Sawamoto教授，曾在美国Akron大学高分子系、加州伯克利大学化学系深造，关于立体可控聚合的研究成果收录在美国的教科书中。此外，邓教授拥有丰富的产业经验，特别是乳液聚合、半导体光刻材料的研发经验。曾任美国罗门哈斯公司（现为陶氏化学公司）高级研究员、美国英特尔公司材料部门高级主管，东京应用化学公司Fellow。

主要研究领域有：

  主攻下一代半导体制程用的光刻材料，特别是10 nm以下分辨率材料的设计合成及应用。课题组受到国家及企业的大力支持，研究经费充足，拥有完善的光刻材料的合成，表征及性能测试平台。目前已经攻克了5 nm~ 10 nm高分辨率的聚合物纳米材料。

课题组主页： http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/ 

课题背景简介

  半导体制造中最关键的材料是光刻胶，有多高分辨率的光刻胶就能造出多小的器件。过去的50年内，半导体产业一直沿着Moore’s law前行。Intel、台积电和三星微电子都已进入了7 nm分辨率的EUV光刻工艺，并将很快进行量产。面对半导体芯片领域向更小、更快和更高密度方向发展的趋势，下一代 10~5 nm 半导体制程的光刻技术和材料已成为全球半导体行业的研发热点。

  目前国内的半导体工艺研发也进入了14 nm制程，国内只能量产低端的i-线光刻材料（国外30年前的产品），国内的高端光刻胶产业几乎处于空白状态，所有的90 nm~ 14 nm制程用的光刻材料完全依靠日本进口。

  下一代10 nm及以下半导体制造所需的EUVL和DSA光刻材料，目前被美国和日本企业所垄断。为了不再受制于人，我国急需研发探索10纳米以下的下一代光刻材料来打破了技术壁垒，实现弯道超车。目前本组已研发出世界上最快速自组装的、5 nm超高分辨率的DSA材料，该成果已发表在SPIE（美国光电协会）等国际会议上，受到广泛好评。为了更好地保护本组知识产权，目前已申请了若干中国及美国专利，相关论文正在整理之中。

招聘基本要求

  由于科研工作需要，本课题组招聘博士后研究员1～2名，进行10纳米以下的下一代光刻材料的研究，具体要求如下：

1、金属有机背景，熟悉烯烃聚合、茂金属催化聚合的博士或有相关合成研究工作经验的博士（应届的或者有工作经验的）。

2、具有良好的英文阅读和写作能力，能快速查阅外文文献，已发表过相关领域英文论文。

3、需要具有一定的指导学生的能力。将会带领在读的硕士、博士生进行项目攻关，身体力行地带领团队研发出新型的高分辨率DSA或含金属EUV光刻材料。

4. 性格开朗，有个人魅力。最好是体育爱好者。

职业规划方向

  本课题组与国内外的知名企业有广泛的合作，可以为候选人提供未来事业发展的支持，可以优先推荐给陶氏化学、上海新阳半导体、中芯国际等公司。

个人待遇

  课题组为入选者提供优越的科研条件和稳定的支持，按照复旦大学有关博士后的规定提供相应个人待遇，课题组根据研究进展和贡献给予补贴，年薪18万起。住房：复旦大学根据申请者要求，提供学校附近一室或二室住房，租金约为市场价格一半。

应聘申请材料

  请应聘者将申请材料（简历和代表论文全文）发至haideng@fudan.edu.cn。

招聘时间

  申请时间为2018年9~11月。