反饱和吸收聚合物光子材料的分子设计、性能及应用研究，2009年全国高分子学术论文报告会（8.18-8.22，天津）-中国聚合物网,论文下载

反饱和吸收聚合物光子材料的分子设计、性能及应用研究

资料类型：

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关键词：

反饱和吸收聚炔光限幅

资料大小：

133K

所属学科：

分子表征

来源：

2009年全国高分子学术论文报告会（8.18-8.22，天津）

简介：

信息化社会的需求与信息科学的快速发展，使得光子聚合物材料及聚合物光子学的研究日益也成为了光学材料领域重要的前沿研究热点课题，引起世界各国科学家的兴趣和重视。反饱和吸收聚合物光子材料具有三阶非线性系数大、响应时间快、损伤阈值高、易于分子设计和成型加工的特点，在三维存储、高速信息传输、激光防护等领域具有重要应用前景，引起人们的广泛关注。聚炔类材料因为具有很强的p电子离域能力，易于极化，因而有着良好的三阶电极化率和飞秒级的快速响应，是很好的非线性光学材料。许多功能性基团取代的聚乙炔衍生物上相继被合成和报道。然而取代聚乙炔作为光限幅材料的研究相对较少。本文利用电子相互作用原理和非线性光学理论，通过分子设计，制备出不同分子结构与构筑的系列共轭结构取代聚炔高分子(Scheme1)，并使用FTIR、UV、1HNMR、GPC和TGA对材料的结构进行表征。使用532nm波长4ns脉冲激光系统，详细研究分子的反饱和吸收性能，深入讨论了分子结构与性能之间关系，并探讨材料在激光防护领域的应用。

作者：

徐洪耀，光善仪，苏新艳

上传时间：

2009-09-07 11:54:37

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