POSS基分子杂化光限幅材料的制备和性能，2009年全国高分子学术论文报告会（8.18-8.22，天津）-中国聚合物网,论文下载

POSS基分子杂化光限幅材料的制备和性能

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分子表征

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简介：

随着民用高精度控制激光设备的广泛推广应用和长波激光探测器快速发展,光限幅材料从被动的防护应用，走向主动的隐身应用领域，对材料性能也提出了更高要求，除要求材料本身具有好的非线性光学和激光防护性能之外，还要具有较高的热稳定性和和很好的成膜性，以满足防护材料新的应用需求。

作者：

苏新艳，张超，徐洪耀

上传时间：

2009-10-15 11:34:35

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相关评论 共有1人发表评论

valleys 2009-10-29 10:53:24

不错！！！！！

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