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含有不同间隔基团的二阶非线性光学高分子 |
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| 资料类型： |
PDF文件
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| 关键词： |
间隔基团 合成 构性关系 |
| 资料大小： |
87K |
| 所属学科： |
分子表征 |
| 来源： |
2009年全国高分子学术论文报告会（8.18-8.22，天津） |
| 简介： |
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目前非线性光学高分子应用的主要阻碍是如何将发色团的一阶超极化率(β)值转换为材料高的宏观非线性光学效应。根据位分离原理，在生色团上引入间隔基团可以很好解决此问题，可是间隔基团的形状、大小及其引入位置与材料宏观非线性光学性能之间的关系如何，尚没有相关报道。 |
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| 作者： |
李忠安，叶成，秦金贵，李振
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| 上传时间： |
2009-09-25 11:58:47 |
| 下载次数： |
1 |
| 消耗积分： |
2
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