零级抑制相位掩膜法刻写偶氮苯聚合物亚微米表面起伏光栅的周期倍增现象，2009年全国高分子学术论文报告会（8.18-8.22，天津）-中国聚合物网,论文下载

零级抑制相位掩膜法刻写偶氮苯聚合物亚微米表面起伏光栅的周期倍增现象

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分子表征

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简介：

光栅在很多场合具有潜在的应用前景，诸如分布反馈激光器、平面波导耦合器、偏振器件等等。周期小于一微米的光栅称为亚微米光栅。目前，光栅的制作常见的方法有电子束刻蚀、双光束干涉刻写、掩膜法刻写等等。相比前两种方法，掩膜法刻写过程更为经济、便捷，且少受环境因素影响。

作者：

武文轩，罗艳华，张其锦

上传时间：

2009-09-21 13:15:59

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相关评论 共有1人发表评论

SRxiaoming 2011-06-25 13:52:42

thx......

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