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氧分压对反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响

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性能表征

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简介：

从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面，讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响。结果表明，随氧分压增大，氧空位的减少使单斜相逐渐占优，缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高；高氧分压下，出现颗粒聚集现象，表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集长大，使薄膜透射率下降。

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2007-07-06 16:40:26

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