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Bi4Ti3O12铁电薄膜I-V特性的研究  
Bi4Ti3O12铁电薄膜I-V特性的研究
资料类型: PDF文件
关键词: 铁电薄膜  Bi4Ti3O12  漏导机制  I-V特性  
资料大小: 135K
所属学科: 性能表征
来源: 来源网络
简介:
采用溶胶-凝胶工艺(Sol-Gel)在Pt/Ti/SiO2/p-Si衬底上成功制备了低漏电流Bi4Ti3O12(BIT)铁电薄膜,对所得样品的漏导行为进行了研究。研究表明,Bi4Ti3O12薄膜的漏电流密度在+3V偏压下低于10-9A/cm2,满足器件应用的要求。在不同场强下薄膜的漏导机制不同,而且正向和负向电场作用下I-V曲线明显不同,正向漏电流明显小于负向漏电流。电压低于2V时,薄膜以欧姆导电机制为主,电压在2~5.4V(加正向电压)或2.2~3.6V(加负向电压)时,BIT薄膜应以Schottkyemission导电机制为主;而对于较高的场强下,BIT薄膜以Space-chargelimitedcurrents(SCLC)导电机制为主。
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上传时间: 2007-07-12 15:48:49
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相关评论 共有1人发表评论 更多评论
jizouzhen888    2009-03-12 18:25:18
感谢分享,谢谢
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