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R.F. 磁控溅射生成的氧化钨薄膜的性能 |
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资料类型: |
PDF文件
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关键词: |
氧化钨薄膜 电致变色 r.f.磁控溅射 |
资料大小: |
119K |
所属学科: |
性能表征 |
来源: |
来源网络 |
简介: |
由于薄膜沉积过程中缺乏氧气,溅射得到的是化学配比偏离WO3的氧化钨薄膜,本文详细研究了不同电压下,R.F磁控溅射生成的不同化学配比的氧化钨薄膜的伏安循环特性;发现它们在一定电压范围内(1.15V到2.8V)都可产生着色现象。着色后对光的吸收是一致的。光的透过率显示电压超过某一值后,膜的变色能力减弱并消失。XRD显示本文所得氧化钨薄膜主要是非晶态的结构。 |
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上传人: |
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上传时间: |
2007-07-12 15:24:49 |
下载次数: |
586 |
消耗积分: |
2
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立即下载: |
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