有序图案构筑与响应功能是材料科学、信息科学和生命科学等多学交叉的新方向。高分子微纳图案化不仅能够满足微加工技术发展趋势的要求，而且具有突出优势。因此，被认为是未来发展不依赖于传统刻蚀技术的微加工技术的新方向。高分子薄膜去润湿诱导有序图案构筑是一种"自下而上"制备大面积图案的有效方法。

    中国科学院长春应化所高分子化学与物理国家重点实验室韩艳春课题组围绕“高分子薄膜去润湿诱导有序图案构筑”这一重要主题展开了多年研究，取得了系列研究成果。近期，该课题组为高分子权威综述杂志《高分子科学进展》（Longjian Xue and Yanchun Han, Pattern formation by dewetting of polymer thin film, Progress in Polymer Science， 2011, 36 (2), 269-293）撰写了相关综述。

    综述系统介绍了高分子薄膜去润湿机理，然后从理论和实验两方面就高分子薄膜去润湿诱导有序图案构筑展开了广泛而深入的讨论，包括物理、化学图案化基底诱导的去润湿图案化、物理受限条件下的去润湿图案化、薄膜表面拓扑结构诱导的去润湿图案化和三相线运动过程诱导的去润湿图案化等。最后就高分子薄膜润湿诱导图案化技术与其他技术的交叉结合以及应用进行了深入讨论，并对高分子薄膜去润湿诱导有序图案构筑的未来发展进行了展望。