美刊公布纳米微型产品制作工艺流程
2008-08-06 来源：中国聚合物网
关键词：
5、托马斯-梅森教授介绍基本操作
托马斯-梅森教授在介绍曝光机的基本操作。在第一步操作中，通过向感光性极强的聚合物照射强烈的紫外线，曝光机可以形成微缩版本的图像。曝光机不断重复上述操作，直到图像数倍地放大于硅片之上。这也是曝光机英文名称的来源。
6、曝光机内部90公斤重的透镜
在曝光机内部，装有一个90公斤重的透镜(见图的中部)。透镜用于形成特定截面图形的光柱，在聚合物上精确刻画出微缩版的图像。透镜的精度极高，从而避免图像曝光过程产生的各种误差。
7、自动机械臂抓住纳米硅片
在曝光机内，一个自动机械臂抓住硅片。通过自动机械臂不断曝光硅片，每次只曝光硅片的一部分。整个硅片的曝光过程，大约需要1分钟。1分钟内可以生产数以十亿计的微颗粒。
8、曝光机须保持完全静止状态
曝光机被放置于一个充满空气的潮湿系统中(图中蓝色顶部的圆柱体)，以保证曝光机完全静止。正如照相时，也一定要保持相机的绝对稳定。如果在曝光的过程中出现震动，那么生产出来的十亿颗产品都可能存在误差。工作平台(见图中粉红色光亮部分)恰好可以在曝光点之间移动硅片。
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（责任编辑：龙翔）
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