应中科院合肥物质科学研究院固体所所长蔡伟平研究员邀请，7月18日至22日，英国牛津仪器仪表等离子体技术公司（Oxford Instruments Plasma Technology，UK）方起研究员访问了固体所，并作了题为“原子层沉积系统（ALD）的发展与应用”的学术报告，并与该所相关科研人员进行了座谈和讨论。

　　ALD技术作为一种先进的薄膜生长技术，已经在高介电和半导体薄膜生长等多方面得到了应用。新型高介电栅介质材料，纳米材料和纳米技术以及3D电子器件等是推动ALD发展重要的需求动力。方起研究员向大家介绍了ALD基本原理、发展历程、应用现状和未来的发展趋势，特别是等离子体增强ALD的技术优势。方起研究员还针对ALD实验室建设和应用提供了专业的建议和意见。