新型干泵经优化用于需要较高气体流量和灵活泵温范围（pump temperature profiles）的太阳能、平板显示器和半导体工艺

英国西萨塞克斯郡，克劳雷 (2011年12月14日)－全球领先的真空和尾气处理设备及服务供应商Edwards公司扩展其广受欢迎的应用于严苛工艺的iXH产品系列，最新推出iXH500H系列干泵。新的500m3/h干泵系列针对需要较高气体流量和灵活泵温范围的平板显示器、太阳能和先进半导体工艺而优化，具有较低的能耗和较长的平均维护间隔时间(mean time between servicing， MTBS)，从而显著降低了拥有成本，同时具备iXH450系列的小占位面积和氢气抽取能力。

Edwards平板显示器(FPD)和太阳能部门干泵产品经理Allister Watson博士表示：“iXH家族的新增系列设计用于应对平板显示器、太阳能和先进半导体工艺中遇到的不同抽取挑战，能够显著延长泵的平均维护间隔时间。迄今为止，行业缺乏具有应对这些不同挑战灵活性的一体化严苛工艺干泵。而iXH500H系列具有更灵活地泵温控制，能够满足这一需求，同时减少多达15%的能耗。因而相比上一代iXH干泵，iXH500H的拥有成本降低了30%。”

平板显示器、太阳能和半导体制造商使用的真空泵必须适应广泛的工作条件和材料。iXH500H系列具有温度灵活性，因而适用于这类严苛工艺。iXH500H系列在低泵温下运行，有益于使用高流量腐蚀性气体的工艺(例如，FPD PECVD、薄膜太阳能PECVD、半导体MOCVD)，或使用热敏前体（pre-cursor）(例如原子层沉积)能够在泵内沉淀副产物的工艺。在有副产品物在泵内冷凝风险(例如高k电介质沉积)的场合，可以选择高工作温度的泵。

Edwards现可提供iXH500H系列干泵，并提供从现有的iXH450系列转换至新型iXH500H系列的升级服务。

要了解更多的信息，请访问公司网站：www.edwardsvacuum.com。

注解：

PECVD：等离子化学气相沉积；

MOCVD：金属有机化学气相沉积

关于Edwards

* 温室气体议定书 ——第三部分：间接排放