相关链接
联系方式
  • 通信地址:江苏省扬州市四望亭路180号
  • 邮编:225002
  • 电话:0514-87979062
  • 传真:0514-87979244
  • Email:lxyzhangm@yzu.edu.cn
当前位置:> 首页 > 专利 > 正文
双连续相结构的高分子合金基纳米复合材料及制备方法
发明/申请人:吴德峰,张明
专利号/申请号:ZL200610040873.0
授权/申请日期:2008-12-17

    本发明涉及一种具有双连续相结构的聚对苯二甲酸丁二醇酯/聚 丙烯合金/蒙脱土高分子合金基纳米复合材料制备方法。本发明按重 量份数:聚丙烯 50-70份,聚对苯二甲酸丁二醇酯 30-50份,有 机蒙脱土1.5-5份。将聚丙烯、聚对苯二甲酸丁二醇酯加入到密炼 机中,再加入有机蒙脱土,在230℃的温度、50rpm转子转速下熔融 共混8-10min,得到具有双连续相结构的聚对苯二甲酸丁二醇酯/聚 丙烯合金/蒙脱土高分子合金基纳米复合材料。解决了蒙脱土简单熔 融共混直接制备出的插层型纳米复合材料在拉伸强度提高的同时韧 性却下降的缺陷。本发明简便易行且成本低廉,大幅提高聚对苯二甲 酸丁二醇酯/聚丙烯合金的拉伸及抗冲性能。