高双折射率de Vries SmA液晶材料的制备与光电性能研究
项目类别：国家自然科学基金青年基金
项目编号：21002012
项目规模：19万
参与人员：杨洪（项目主持人）
起止日期：2011-2013
de Vries SmA*液晶是液晶研究领域新出现的一个热点，它在 SmA*--SmC*液晶相变过程中不会产生zigzag缺陷，是未来铁电液晶光电显示技术的理想材料，在光通讯领域中也有很好的应用前景。然而现有材料由于光调制范围较窄，导致在光通讯领域中适用性受限。本项目旨在提出一种具有高双折射率的de Vries SmA*液晶材料的新概念，以拓宽光调制区间。主要的研究内容为1)合成以二苯乙炔或三苯二乙炔为核，含一个手性末端基和一个氟化或硅烷基化的长链末端基的多种化合物，使新材料兼有高双折射率和de Vries SmA*--SmC*相变两种性质；2）研究该类材料的物理和光电性能；3）利用其自身在液晶元件平面上的双折射率由外加电场控制可产生连续变化的特性，通过直接改变双折射率来调节透射光，寻找高双折射率de Vries SmA*材料在光通讯领域实现电驱动连续可控光调制的基本方法和内在规律。