inventor/creator：卞希慧; 陆占魁; 第五鹏瑶; 张斐; 初园园; 谭小耀
Paten number/application number：ZL201710569314.7.
application/authorized announcemen date：2021-3-16
brief introduction：本发明涉及一种复杂样品光谱信号选择性集成预处理建模方法，不选择某一种预处理方法，而是使用所有的预处理方法对光谱分别预处理后建立PLS模型，在进行光谱预处理时，先对偏最小二乘和预处理方法进行参数优化后，对10种预处理方法按照基线校正、散射校正、平滑处理和尺度缩放的顺序进行全排列组合建立120种预处理方法及其组合的PLS模型，再对预测效果优于PLS模型的结果进行集成，其简单平均作为最终预测结果。本发明无需选择预处理方法，预测准确度却优于最佳的预处理方法。本发明适用于存在噪声、背景、杂散光干扰的复杂样品光谱信号的建模。