inventor/creator：刘 鹏，谭小耀，于鹏飞，杨晶晶，杨坤
Paten number/application number：ZL201510800323.3
application/authorized announcemen date：2019-1-7
brief introduction：

本发明涉及一种盐水组分穿越聚偏氟乙烯膜表面纳米孔洞的预测方法。具体为先通过VMD构建体系的结构，随后通过NAMD中Adaptive

biasing force方法分别计算水分子，钠离子和氯离子穿越纳米孔洞的自由能曲线。通过在反应路径上积分自由能曲线得到穿越速率。通过对自由能曲线的分解结合相应的结构分析得出穿越机理，并对海水淡化膜的结构优化提供理论指导。通过计算水分子，钠离子和氯离子在不同尺寸孔洞中的穿越速率，得到能用于淡化海水的最大尺寸孔洞。通过对孔洞结构以及修饰基团的更改，得到不同化学环境对该孔洞工作效率的影响。结果表明，使用该方法所得的计算结果准确，且能有效降低设计费用，并显著提高设计效率。因此，本发明所述的理论方法可用于海水淡化膜的工作效率预测和工作机理的探索