类吡啶分子系统对贵金属薄膜的纳米制造基础研究

微纳米制造产出了超过 260 亿美元的集成电路产品。提高分辨率和降低成本一直是微纳米制造领域的追求目标，而传统光刻蚀策略已经不能满足超精细刻蚀技术如亚 10 纳米刻蚀水平的要求。本研究旨在揭示新发现的核酸催化金刻蚀规律的基础上，研究和开发本质上不同于光刻蚀的纳米制造新技术，从而解决纳米制造过程中的关键核心难题。本研究首先探索在弱氧化环境下，吡啶基元与贵金属离子之间的配位过程，研究该配位产物对于贵金属氧化还原电位的影响，最终在揭示吡啶催化的氧化刻蚀机理之上，逐步建立一整套利用含类吡啶基元结构的大分子（生物大分子如 DNA 和合成高分子如聚乙烯基吡啶）来实现贵金属材料微纳米尺度刻蚀的科学方法。该方法过程简单，不使用对环境污染严重的液、气体以及高温、高腐蚀性条件；力争实现单分子水平刻蚀，从而满足亚 10 纳米刻蚀要求。本课题将开拓新的研究领域，并刺激新一代亚 10 纳米刻蚀方法发展以适应未来电子和半导体工业的需要。
[来源：中国聚合物网]