新型VisionPad 3200及VisionPad 3500研磨垫在金属研磨方面兼具软、硬研磨垫之优点。

 

    中国上海，2007年7月12日 — 在全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术及创新方面处于领先地位的罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部近日宣布其VisionPad™研磨垫系列又增添了两款新品。这两款产品可提供世界级的低生产缺陷率，极高的研磨能力和更长的使用寿命。

 

    产品亮点：

 

    • VisionPad 3200可大幅降低生产缺陷率，并具备Politex™的标准研磨能力以及更长的铜阻障层研磨寿命。这些改进设计可增加客户所在企业的产能，提高产量，减少停工时间。

 

    • VisionPad 3500在铜阻障层研磨方面同时具备IC1000™的研磨效果和Politex™的低缺陷率水平。此外，它还适用于钨研磨及铜清洗作业。

 

    VisionPad 3200及VisionPad 3500专为需要使用高级金属加工工艺的半导体制造商设计。这两款研磨垫应用独特的化学研磨技术，可最大程度地减少晶圆上的划痕、振纹及其他缺陷，从而提高晶粒产量。罗门哈斯在制造这两种新型研磨垫时采用了已获专利的聚氨酯配方，使其表面比传统硬研磨垫更软，可有效降低缺陷率，同时又具有必要的硬度，以确保一流的研磨性能。

 

    VisionPad 3200及VisionPad 3500的使用寿命要长于传统的软研磨垫，与传统硬研磨垫相当，因此十分方便用户在各种研磨机平台上均衡使用，减少因研磨垫更换或条件限制而导致的停工时间。

 

    “这些新产品代表着我们在研磨垫制造领域主要而及时的发展动向，”罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部副总裁Cathie Markham表示。“目前，我们的客户正在向更高的制造工艺和节点迁移。相应地，我们也在开发和推出特别设计的新品，以满足客户日益变化的研磨需求。”

 

    与传统的软研磨垫不同，VisionPad 3200及VisionPad 3500的性能及配置可调。用户可重新配置这两款研磨垫的表面特性以获得长期稳定的最佳研磨效果。用户可配置范围包括这两款研磨垫的多沟槽，子研磨垫及粘性配置。

 

    罗门哈斯在VisionPad产品的生产过程中应用了SPC/SQC系统，以确保该系列产品的高质量和稳定性能。目前，这两款新品已经面市，供用户试用。